产品描述:满足12寸wafer 制造中所有复杂平坦化工艺需求。适用于5nm/7nm/14nm等逻辑制程和存储制程,覆盖STI/ILD/IMD, FinFET/Metal gate/W/ Cu等工艺。
产品特点:1、全新高效的结构设计2、先进的终点检测技术3、工艺灵活性高4、研磨头和研磨台对应,保证更好的工艺一致性5、产出速率相对国际进口设备提升显著